Ensemble d’analyse de données de microlithographie capable d’adapter les ensembles de données de type Bossung, également connus sous le nom de matrices d’exposition de mise au point. Mots-clés: Lithographie, Photolithographie, Photorésist, Fenêtre de processus, Dimension critique, CD, Bossung, FEM
historique de la version
- Version N/A posté sur 2011-08-11
Plusieurs correctifs et mises à jour - Version N/A posté sur 2011-08-11
Détails du programme
- Catégorie: Développement > Autres
- Éditeur: freedata.sf.net
- Licence: Gratuit
- Prix: N/A
- Version: Array
- Plate-forme: windows